| Summary: | Представлены исследования водородной декрипитации вторич-ных магнитных сплавов системы NdFeB. В качестве материала для экспериментов использовались вторичные магниты, извлеченные из жестких дисков для ПК. Выбор данных изделий обусловлен их низкой стоимостью, простотой извлечения и компактностью размеров. Извлеченные магниты подвергались размагничиванию при 623 К и среднем вакууме (10–2 кПа) в течение 4 ч с последующей трех-стадийной очисткой поверхности. Очистка проводилась с целью удаления с поверхности магнита гальванического покрытия, поверхностно-окисленного слоя, адсорбированных на поверхности примесей и влаги. Первая стадия – пескоструй-ная обработка – проводилась частицами шлаковой дроби, подаваемыми под давлением 300 кПа. Вторая стадия – химическое травление растворами различных разбавленных кислот (1–3% HCl, HNO3 или H2SO4 в дистиллированной воде) с промывкой в ацетоне. Третья стадия – вакуумная термообработка, заключаю-щаяся в резком нагреве образцов, помещенных в автоклав, при среднем вакууме, с несколькими выдержками в температурном диапазоне 373–573 К и последующим напуском аргона, с закалкой автоклава в ледяной воде. Затем магниты подвергались водородной декрипитации, проводимой в интервале температур от 298 до 498 К и интервале избыточного давления газовой фазы водорода от 30 до 210 кПа, для установления влияния данных величин на свойства порошков гидридов и ко-личество поглощенного водорода. Для декрипитации использовался водород, полученный прямым десорбированием с нагреваемого гидрида сплава LaNi5. В диапазоне 30–70 кПа и комнатной температуре получены гидриды, сорбировавшие 0,459 мас. % водорода, с отсутствием периода первичной адсорбции молекулярного водорода и мгновенным началом поглощения водорода из газовой фазы. Получены высокохрупкие порошки гидридов, позволяющие провести их тонкое измельчение в планетарной шаровой мельнице за 6 мин для получения частиц порошка размером менее 20 мкм. Проведенный анализ поверхности тонкоизмельченных частиц порошка гидридов показал отсутствие окисления поверхности.
|
|---|
