Оценка концентрации хрома в высокоомном GaAs:Cr, создаваемом диффузией
Представлены результаты исследований поглощения ИК-излучения в высокоомном GaAs:Cr. Измерения поглощения проведены в интервале энергий фотонов 0,5–1,5 эВ при комнатной температуре. Исследованы три типа образцов: легированные диффузией хрома в закрытой и открытой системах и легированные хромом при вы...
| Опубликовано в: : | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 54, № 2. С. 100-102 |
|---|---|
| Другие авторы: | Будницкий, Давыд Львович, Новиков, Владимир Александрович, Толбанов, Олег Петрович, Яскевич, Тамара Михайловна |
| Формат: | Статья в журнале |
| Язык: | Russian |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001133465 |
Похожие документы
-
Поглощение ИК-излучения в высокоомном GaAs, сформированном диффузией хрома
по: Будницкий, Давыд Львович -
Получение предельно высокоомного GaAs диффузией хрома в форминг-газе
по: Ардышев, Михаил Вячеславович -
Исследование распределения эффективности сбора заряда по пластине GaAs:Cr
по: Щербаков, Иван Дмитриевич - Characterization of 4 inch GaAs:Cr wafers
-
Исследование распределения удельного сопротивления по пластине GaAs:Cr
по: Щербаков, Иван Дмитриевич
