Определение электрофизических свойств МДП на основе nB(SL)n-структуры из HgCdTe в широком температурном диапазоне

Проведено исследование адмитансных характеристик структуры металлдиэлектрик-полупроводник (МДП), в качестве полупроводника в которой использовалась nBn-структура на основе эпитаксиальных слоев Hg1-x Cd x Te, выращенных методом МЛЭ со сверхрешёткой в барьерной области. Построены зависимости концентра...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Прикладная физика № 5. С. 75-83
Other Authors: Войцеховский, Александр Васильевич, Дзядух, Станислав Михайлович, Горн, Дмитрий Игоревич, Дворецкий, Сергей Алексеевич, Михайлов, Николай Николаевич физик, Сидоров, Георгий Юрьевич, Якушев, Максим Витальевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001139307
LEADER 03413nab a2200397 c 4500
001 koha001139307
005 20241016174318.0
007 cr |
008 240513|2023 ru s c rus d
024 7 |a 10.51368/1996-0948-2023-5-75-83  |2 doi 
035 |a koha001139307 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
245 1 0 |a Определение электрофизических свойств МДП на основе nB(SL)n-структуры из HgCdTe в широком температурном диапазоне  |c А. В. Войцеховский, С. М. Дзядух, Д. И. Горн [и др.] 
246 1 1 |a Determination of the electrical properties of MIS based on the nB(SL)n-structure of HgCdTe in a wide temperature range 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 14 назв. 
520 3 |a Проведено исследование адмитансных характеристик структуры металлдиэлектрик-полупроводник (МДП), в качестве полупроводника в которой использовалась nBn-структура на основе эпитаксиальных слоев Hg1-x Cd x Te, выращенных методом МЛЭ со сверхрешёткой в барьерной области. Построены зависимости концентрации основных носителей заряда и величины роизведения дифференциального сопротивления области пространственного заряда (ОПЗ) на площадь структуры от температуры. Определены параметры границы раздела Al2O3/Hg1-xCdxTe, такие как плотность и характерное время перезарядки поверхностных состояний. На температурной зависимости дифференциальной проводимости ОПЗ обнаружены две груп пы максимумов, на основании положения которых определены энергии активации носителей заряда, одна из которых соответствует ширине запрещенной зоны контактного слоя. 
653 |a сверхрешетки 
653 |a гетероэпитаксиальные слои 
653 |a nBn-структура 
653 |a МДП-структура 
653 |a адмитанс 
655 4 |a статьи в журналах 
700 1 |a Войцеховский, Александр Васильевич 
700 1 |a Дзядух, Станислав Михайлович 
700 1 |a Горн, Дмитрий Игоревич 
700 1 |a Дворецкий, Сергей Алексеевич 
700 1 |a Михайлов, Николай Николаевич  |c физик 
700 1 |a Сидоров, Георгий Юрьевич 
700 1 |a Якушев, Максим Витальевич 
773 0 |t Прикладная физика  |d 2023  |g  № 5. С. 75-83  |x 1996-0948  |w 0099-44260 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001139307 
908 |a статья 
999 |c 1139307  |d 1139307