Влияние воздействия мощного импульсного лазерного ИК-излучения на электрофизические свойства гетероэпитаксиальных слоев CdxHg1–xТе

Представлены результаты исследований электрофизических свойств гетероэпитаксиальных слоев CdxHg1–xTe p- и n-типа, выращенных методом молекулярно-лучевой и жидкофазной эпитаксии после воздействия мощного импульсного ИК-излучения твердотельного YAG/Nd3+- и химического DF-лазеров, излучающих на длине в...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 55, № 12. С. 3-14
Main Author: Талипов, Нияз Хатимович
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001140073
LEADER 03176nab a2200289 c 4500
001 koha001140073
005 20240603145020.0
007 cr |
008 240527|2012 ru s c rus d
035 |a koha001140073 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
100 1 |a Талипов, Нияз Хатимович 
245 1 0 |a Влияние воздействия мощного импульсного лазерного ИК-излучения на электрофизические свойства гетероэпитаксиальных слоев CdxHg1–xТе  |c Н. Х. Талипов 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 33 назв. 
520 3 |a Представлены результаты исследований электрофизических свойств гетероэпитаксиальных слоев CdxHg1–xTe p- и n-типа, выращенных методом молекулярно-лучевой и жидкофазной эпитаксии после воздействия мощного импульсного ИК-излучения твердотельного YAG/Nd3+- и химического DF-лазеров, излучающих на длине волны 1,06 и 3,8–4,2 мкм соответственно. Показано, что основным типом дефектов, возникающих в результате импульсного облучения, являются вакансии ртути, которые играют роль акцепторов в этом материале. Пространственное распределение генерируемых вакансий ртути зависит от интенсивности и длины волны лазерного излучения: дефекты, порождаемые импульсами YAG/Nd3+-лазера, концентрируются лишь вблизи поверхности, в то время как излучение DF-лазера создает дефекты по всему объему гетероэпитаксиальной структуры. Установлено, что облучение YAG/Nd3+-лазером имплантированных ионами бора гетероэпитаксиальных слоев p-CdxHg1–xTe приводит к активации внедренных атомов бора в результате плавления и рекристаллизации облученного поверхностного слоя. 
653 |a гетероэпитаксиальные слои 
653 |a радиационные дефекты 
653 |a лазерное облучение 
653 |a ионная имплантация 
655 4 |a статьи в журналах 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2012  |g Т. 55, № 12. С. 3-14  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001140073 
908 |a статья 
999 |c 1140073  |d 1140073