| Summary: | Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование ваку- умно-дугового испарителя с тангенциальным к поверхности катода магнитным полем уменьшает генерацию медных макрочастиц в 5 раз по сравнению с аксиально-симметричным вакуумно-дуговым испарителем, в котором используется нормальное к рабочей поверхности катода магнитное поле. Установлено, что совместное действие тангенциального поля и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения обеспечивает возможность снижения плотности медных макрочастиц на поверхности мишени на 2–3 порядка.
|
|---|
