Применение тангенциального магнитного поля и импульсно-периодического потенциала смещения для подавления медных макрочастиц вакуумной дуги
Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование ваку-...
| Published in: | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 59, № 6. С. 125-130 |
|---|---|
| Main Author: | |
| Other Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Subjects: | |
| Online Access: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141326 Перейти в каталог НБ ТГУ |
| LEADER | 03276nab a2200337 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | koha001141326 | ||
| 005 | 20240724140836.0 | ||
| 007 | cr | | ||
| 008 | 240619|2016 ru s c rus d | ||
| 035 | |a koha001141326 | ||
| 040 | |a RU-ToGU |b rus |c RU-ToGU | ||
| 100 | 1 | |a Рябчиков, Александр Ильич |9 77033 | |
| 245 | 1 | 0 | |a Применение тангенциального магнитного поля и импульсно-периодического потенциала смещения для подавления медных макрочастиц вакуумной дуги |c А. И. Рябчиков, П. С. Ананьин, А. Э. Шевелев |
| 336 | |a Текст | ||
| 337 | |a электронный | ||
| 504 | |a Библиогр.: 12 назв. | ||
| 520 | 3 | |a Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование ваку- умно-дугового испарителя с тангенциальным к поверхности катода магнитным полем уменьшает генерацию медных макрочастиц в 5 раз по сравнению с аксиально-симметричным вакуумно-дуговым испарителем, в котором используется нормальное к рабочей поверхности катода магнитное поле. Установлено, что совместное действие тангенциального поля и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения обеспечивает возможность снижения плотности медных макрочастиц на поверхности мишени на 2-3 порядка. | |
| 653 | |a металлическая плазма | ||
| 653 | |a микрокапельная фракция | ||
| 653 | |a высокочастотный короткоимпульсный отрицательный потенциал смещения | ||
| 653 | |a вакуумно-дуговой разряд | ||
| 655 | 4 | |a статьи в журналах |9 965848 | |
| 700 | 1 | |a Ананьин, Петр Семенович |9 965849 | |
| 700 | 1 | |a Шевелев, Алексей Эдуардович |9 506938 | |
| 773 | 0 | |t Известия высших учебных заведений. Физика |d 2016 |g Т. 59, № 6. С. 125-130 |x 0021-3411 |w 0026-80960 | |
| 852 | 4 | |a RU-ToGU | |
| 856 | 4 | |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141326 | |
| 856 | |y Перейти в каталог НБ ТГУ |u https://koha.lib.tsu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=1141326 | ||
| 908 | |a статья | ||
| 999 | |c 1141326 |d 1141326 | ||
| 039 | |b 100 | ||