|
|
|
|
| LEADER |
03062nab a2200313 c 4500 |
| 001 |
koha001141326 |
| 005 |
20240724140836.0 |
| 007 |
cr | |
| 008 |
240619|2016 ru s c rus d |
| 035 |
|
|
|a koha001141326
|
| 040 |
|
|
|a RU-ToGU
|b rus
|c RU-ToGU
|
| 100 |
1 |
|
|a Рябчиков, Александр Ильич
|
| 245 |
1 |
0 |
|a Применение тангенциального магнитного поля и импульсно-периодического потенциала смещения для подавления медных макрочастиц вакуумной дуги
|c А. И. Рябчиков, П. С. Ананьин, А. Э. Шевелев
|
| 336 |
|
|
|a Текст
|
| 337 |
|
|
|a электронный
|
| 504 |
|
|
|a Библиогр.: 12 назв.
|
| 520 |
3 |
|
|a Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование ваку- умно-дугового испарителя с тангенциальным к поверхности катода магнитным полем уменьшает генерацию медных макрочастиц в 5 раз по сравнению с аксиально-симметричным вакуумно-дуговым испарителем, в котором используется нормальное к рабочей поверхности катода магнитное поле. Установлено, что совместное действие тангенциального поля и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения обеспечивает возможность снижения плотности медных макрочастиц на поверхности мишени на 2–3 порядка.
|
| 653 |
|
|
|a металлическая плазма
|
| 653 |
|
|
|a микрокапельная фракция
|
| 653 |
|
|
|a высокочастотный короткоимпульсный отрицательный потенциал смещения
|
| 653 |
|
|
|a вакуумно-дуговой разряд
|
| 655 |
|
4 |
|a статьи в журналах
|
| 700 |
1 |
|
|a Ананьин, Петр Семенович
|
| 700 |
1 |
|
|a Шевелев, Алексей Эдуардович
|
| 773 |
0 |
|
|t Известия высших учебных заведений. Физика
|d 2016
|g Т. 59, № 6. С. 125-130
|x 0021-3411
|w 0026-80960
|
| 852 |
4 |
|
|a RU-ToGU
|
| 856 |
4 |
|
|u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141326
|
| 908 |
|
|
|a статья
|
| 999 |
|
|
|c 1141326
|d 1141326
|
