Влияние неравномерности толщины поверхностной диэлектрической пленки на распыление катода в тлеющем разряде
Установлены закономерности процесса распыления катода с тонкой диэлектрической пленкой переменной толщины в тлеющем разряде. Показано, что плотность потока распыленных с катода атомов максимальна на его участках с наименьшей толщиной пленки вследствие существования фокусировки на них ионного потока,...
| Published in: | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 58, № 9. С. 99-104 |
|---|---|
| Main Author: | |
| Other Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Subjects: | |
| Online Access: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141731 |
| Summary: | Установлены закономерности процесса распыления катода с тонкой диэлектрической пленкой переменной толщины в тлеющем разряде. Показано, что плотность потока распыленных с катода атомов максимальна на его участках с наименьшей толщиной пленки вследствие существования фокусировки на них ионного потока, которая обусловлена нарушением однородности электрического поля вблизи поверхности катода. В результате происходит увеличение неравномерности толщины пленки с течением времени, приводящее к образованию в ней пор. |
|---|---|
| Bibliography: | Библиогр.: 11 назв. |
| ISSN: | 0021-3411 |