Поверхностное легирование стали 12Х18Н10Т электронно-плазменным методом

Выявлены и проанализированы закономерности формирования наноструктурных, нанофазных поверхностных слоев в стали аустенитного класса, подвергнутой поверхностному легированию электронно-плазменным методом. Формирование наноструктурных, нанофазных поверхностно легированных слоев толщиной до 30 мкм осущ...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 60, № 3. С. 122-128
Other Authors: Иванов, Юрий Федорович 1955-, Тересов, Антон Дмитриевич, Петрикова, Елизавета Алексеевна, Крысина, Ольга Васильевна, Иванова, Ольга Викторовна физик, Шугуров, Владимир Викторович, Москвин, Павел Владимирович
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141935
LEADER 04610nab a2200361 c 4500
001 koha001141935
005 20240920123818.0
007 cr |
008 240628|2017 ru s c rus d
035 |a koha001141935 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
245 1 0 |a Поверхностное легирование стали 12Х18Н10Т электронно-плазменным методом  |c Ю. Ф. Иванов, А. Д. Тересов, Е. А. Петрикова [и др.] 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 19 назв. 
520 3 |a Выявлены и проанализированы закономерности формирования наноструктурных, нанофазных поверхностных слоев в стали аустенитного класса, подвергнутой поверхностному легированию электронно-плазменным методом. Формирование наноструктурных, нанофазных поверхностно легированных слоев толщиной до 30 мкм осуществляли плавлением системы «пленка/подложка» высокоинтенсивным импульсным электронным пучком на установке «СОЛО» (Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск), обеспечивающей кристаллизацию и последующую закалку со скоростями охлаждения в интервале 10⁵–10⁸ К/с. В качестве модифицируемого материала использованы образцы стали 12Х18Н10Т. Систему «пленка / подложка» (толщина пленки 0.5 мкм) формировали вакуумно-дуговым методом с плазменным ассистированием путем испарения катода из спеченного псевдосплава Zr – 6 ат. % Ti – 6 ат. % Cu. Напыление пленки осуществляли на установке «КВИНТА», оснащенной плазменным источником с накаленным катодом ПИНК и дуговыми испарителями ДИ100 с усиленным охлаждением рабочего катода, что позволяло снизить размеры и долю частиц капельной фракции в напыляемой пленке. Установлено, что плавление системы «пленка (Zr–Ti–Cu)/(сталь 12Х18Н10Т) подложка» интенсивным импульсным электронным пучком и последующая высокоскоростная кристаллизация сопровождается формированием в поверхностном слое структуры ячеистой кристаллизации α-железа, выделением по границам ячеек частиц Cr₂Zr, Cr₃С2 и TiC, что в совокупности позволило повысить микротвердость материала в 1.3 раза, модуль Юнга в 1.2 раза, износостойкость в 2.7 раза и уменьшить коэффициент трения в 3 раза. 
653 |a аустенитные стали 
653 |a поверхностное легирование 
653 |a низкотемпературная плазма 
653 |a экспериментальные исследования 
655 4 |a статьи в журналах 
700 1 |a Иванов, Юрий Федорович  |d 1955- 
700 1 |a Тересов, Антон Дмитриевич 
700 1 |a Петрикова, Елизавета Алексеевна 
700 1 |a Крысина, Ольга Васильевна 
700 1 |a Иванова, Ольга Викторовна  |c физик 
700 1 |a Шугуров, Владимир Викторович 
700 1 |a Москвин, Павел Владимирович 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2017  |g Т. 60, № 3. С. 122-128  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141935 
908 |a статья 
999 |c 1141935  |d 1141935