Особенности определения концентрации легирующей примеси в приповерхностном слое полупроводника путем измерения адмиттанса МДП-структур на основе p-Hg0.78Cd0.22Te, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии

Исследованы особенности определения концентрации и профиля распределения легирующей примеси в приповерхностном слое полупроводника при помощи измерения адмиттанса МДП-структур на основе p-Hg₀.₇₈Cd₀.₂₂Te, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Предложена методика определения концентрации...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 59, № 2. С. 105-114
Main Author: Войцеховский, Александр Васильевич
Other Authors: Несмелов, Сергей Николаевич, Дзядух, Станислав Михайлович
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001142207
LEADER 03659nab a2200361 c 4500
001 koha001142207
005 20241016173304.0
007 cr |
008 240705|2016 ru s c rus d
035 |a koha001142207 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
100 1 |a Войцеховский, Александр Васильевич 
245 1 0 |a Особенности определения концентрации легирующей примеси в приповерхностном слое полупроводника путем измерения адмиттанса МДП-структур на основе p-Hg0.78Cd0.22Te, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии  |c А. В. Войцеховский, С. Н. Несмелов, С. М. Дзядух 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 31 назв. 
520 3 |a Исследованы особенности определения концентрации и профиля распределения легирующей примеси в приповерхностном слое полупроводника при помощи измерения адмиттанса МДП-структур на основе p-Hg₀.₇₈Cd₀.₂₂Te, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Предложена методика определения концентрации легирующей примеси, основанная на измерении адмиттанса МДП-структур в диапазоне частот 50 кГц – 1 МГц. Показано, что вольт-фарадные характеристики МДП-структур на основе p-Hg₀.₇₈Cd₀.₂₂Te с приповерхностным варизонным слоем в этом частотном диапазоне имеют высокочастотный вид относительно времени перезарядки поверхностных состояний, расположенных вблизи уровня Ферми для собственного полупроводника. Рассчитан профиль распределения легирующей примеси в приповерхностном слое полупроводника и показано, что в p-Hg₀.₇₈Cd₀.₂₂Te с приповерхностным варизонным слоем концентрация легирующей примеси имеет минимум вблизи границы раздела с диэлектриком. 
653 |a МДП-структуры 
653 |a HgCdTe 
653 |a молекулярно-лучевая эпитаксия 
653 |a варизонные слои 
653 |a вольт-фарадные характеристики 
653 |a концентрация легирующей примеси 
653 |a профиль распределения концентрации 
653 |a легирующие примеси 
655 4 |a статьи в журналах 
700 1 |a Несмелов, Сергей Николаевич 
700 1 |a Дзядух, Станислав Михайлович 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2016  |g Т. 59, № 2. С. 105-114  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001142207 
908 |a статья 
999 |c 1142207  |d 1142207