|
|
|
|
| LEADER |
02772naa a2200325 c 4500 |
| 001 |
koha001146842 |
| 005 |
20241126140045.0 |
| 007 |
cr | |
| 008 |
241029s2023 ru fs 100 0 rus d |
| 035 |
|
|
|a koha001146842
|
| 040 |
|
|
|a RU-ToGU
|b rus
|c RU-ToGU
|
| 100 |
1 |
|
|a Никоненко, Алиса Владимировна
|
| 245 |
1 |
0 |
|a Влияние дозы имплантации ионами Al на прочностные свойства сплава ВТ1-0 в мелкозернистом структурном состоянии
|c А. В. Никоненко, Н. А. Попова, Е. Л. Никоненко
|
| 246 |
1 |
1 |
|a Influence of the dose of implantation with Al ions on the strength properties of VT1-0 alloy in the moh structural state
|
| 336 |
|
|
|a Текст
|
| 337 |
|
|
|a электронный
|
| 504 |
|
|
|a Библиогр.: 1 назв.
|
| 520 |
3 |
|
|a Transmission diffraction electron microscopy was used to study the fine structure of the VT1-0 alloy in the fine-grained state (MG) (average grain size ~ 1.7 μm) after implantation with aluminum ions at various radiation doses. It has been established that in the MG state of the alloy, a gradient structure is formed deep from the surface of the implanted sample, consisting of 5 different layers: 1 – oxide layer; 2 – ion-doped layer; 3 – a layer with a crushed grain structure; 4 – layer of residual influence of implantation; 5 – layer with initial grain structure. It has been established that the main strengthening is provided by layer 2 and layer 3 in all doses of implantation, due to internal local stresses and solid solution strengthening, grain boundary strengthening and hardening by particles of the second phases make a significant contribution.
|
| 653 |
|
|
|a ВТ1-0, технический титан
|
| 653 |
|
|
|a ионы алюминия
|
| 653 |
|
|
|a прочностные свойства
|
| 653 |
|
|
|a экспериментальные исследования
|
| 655 |
|
4 |
|a статьи в сборниках
|
| 700 |
1 |
|
|a Попова, Наталья Анатольевна
|c канд. техн. наук
|
| 700 |
1 |
|
|a Никоненко, Елена Леонидовна
|
| 773 |
0 |
|
|t Перспективы развития фундаментальных наук. Т. 7 : сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, 25-28 апреля 2023 г.
|d Томск, 2023
|g Т. 7 : IT-технологии и электроника. С. 103-105
|z 9785438711438
|z 9785438711360
|
| 852 |
4 |
|
|a RU-ToGU
|
| 856 |
4 |
|
|u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001146842
|
| 908 |
|
|
|a статья
|
| 999 |
|
|
|c 1146842
|d 1146842
|
