Электронно-микроскопический анализ градиентной структуры, формирующейся в титане при напылении твердого покрытия

Осуществлено осаждение на образцы технически чистого титана марки ВТ1-0 покрытия нитрида титана толщиной 0.5 мкм вакуумно-дуговым методом с плазменным ассистированием. Выявлено формирование многослойной многофазной высокодефектной структуры толщиной до 40 мкм. По морфологическому признаку выде...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 60, № 5. С. 118-125
Other Authors: Иванов, Юрий Федорович 1955-, Шугуров, Владимир Викторович, Крысина, Ольга Васильевна, Петрикова, Елизавета Алексеевна, Иванова, Ольга Викторовна физик, Толкачев, Олег Сергеевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001147764
Перейти в каталог НБ ТГУ
Description
Summary:Осуществлено осаждение на образцы технически чистого титана марки ВТ1-0 покрытия нитрида титана толщиной 0.5 мкм вакуумно-дуговым методом с плазменным ассистированием. Выявлено формирование многослойной многофазной высокодефектной структуры толщиной до 40 мкм. По морфологическому признаку выделены поверхностный и переходный слои. Показано, что поверхностный слой (толщина слоя 300-350 нм), основной фазой которого является TiN, имеет поликристаллическое строение (размер кристаллитов 20-50 нм). Переходный слой, основной фазой которого является Ti2N, делится на два подслоя. Подслой, примыкающий к поверхностному слою, имеет столбчатую структуру (поперечные размеры столбиков 50-80 нм). Подслой, примыкающий к основному объему образца, сформирован кристаллитами квазиравноосной формы (размер кристаллитов 150-280 нм). Высказано предположение, что основной причиной формирования многослойной многофазной структуры является многоступенчатость процесса модифицирования материала, реализуемого в условиях единого вакуума.
Bibliography:Библиогр.: 23 назв.
ISSN:0021-3411