| Итог: | Осуществлено осаждение на образцы технически чистого титана марки ВТ1-0 покрытия нитрида титана толщиной 0.5 мкм вакуумно-дуговым методом с плазменным ассистированием. Выявлено формирование многослойной многофазной высокодефектной структуры толщиной до 40 мкм. По морфологическому признаку выделены поверхностный и переходный слои. Показано, что поверхностный слой (толщина слоя 300–350 нм), основной фазой которого является TiN, имеет поликристаллическое строение (размер кристаллитов 20–50 нм). Переходный слой, основной фазой которого является Ti2N, делится на два подслоя. Подслой, примыкающий к поверхностному слою, имеет столбчатую структуру (поперечные размеры столбиков 50–80 нм). Подслой, примыкающий к основному объему образца, сформирован кристаллитами квазиравноосной формы (размер кристаллитов 150–280 нм). Высказано предположение, что основной причиной формирования многослойной многофазной структуры является многоступенчатость процесса модифицирования материала, реализуемого в условиях единого вакуума.
|
|---|
