Ионная имплантация в узкозонные твердые растворы CdxHg1-xTe

Представлены результаты экспериментальных исследований процессов радиационного дефектообразования в узкозонных твердых растворах CdₓHg₁₋ₓTe (КРТ) при ионной имплантации. Рассмотрены процессы формирования структурных нарушений кристалла и их влияние на электрофизические свойства ионно-имплантиров...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 61, № 6. С. 3-20
Main Author: Талипов, Нияз Хатимович
Other Authors: Войцеховский, Александр Васильевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001148155
Перейти в каталог НБ ТГУ
Description
Summary:Представлены результаты экспериментальных исследований процессов радиационного дефектообразования в узкозонных твердых растворах CdₓHg₁₋ₓTe (КРТ) при ионной имплантации. Рассмотрены процессы формирования структурных нарушений кристалла и их влияние на электрофизические свойства ионно-имплантированных объемных кристаллов и гетероэпитаксиальных структур КРТ р-типа, выращенных методами жидкофазной и молекулярно-лучевой эпитаксии. Приведены результаты по пространственному распределению в данных материалах внедренных атомов бора, а также радиационных донорных центров в зависимости от массы, дозы и энергии внедряемых ионов, температуры имплантации. Рассмотрены процессы и модели формирования n⁺-n⁻-p-структур при ионной имплантации бора в КРТ р-типа и их экспериментальное доказательство.
Bibliography:Библиогр.: 104 назв.
ISSN:0021-3411