Изучение формирования ступенчатой поверхности Si(100) при молекулярно-лучевой эпитаксии
Проведены экспериментальные исследования формирования структуры ступенчатой поверхности при молекулярно-лучевой эпитаксии кремния на подложке Si(100) в широких интервалах изменения температуры подложки и скорости роста кремния. С помощью дифракции быстрых электронов на отражение определены условия п...
| Опубликовано в: : | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 61, № 7. С. 22-26 |
|---|---|
| Другие авторы: | , , , |
| Формат: | Статья в журнале |
| Язык: | Russian |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001148279 |
