RHEED patterns from 2x1 and 1x2 superstructures during epitaxy of Si on Si(100)

This paper analyzes the growth of Si on Si (100) substrate in a wide temperature range by reflection high-energy electron diffraction method (RHEED) and studies its mechanisms.

Bibliographic Details
Published in:Двадцать первая Всероссийская конференция студенческих научно-исследовательских инкубаторов, Томск, 13−17 мая 2024 г. : сборник трудов С. 128
Main Author: Dyukov, I. Y.
Other Authors: Burnashov, A. A.
Format: Book Chapter
Language:English
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001149275
LEADER 01522naa a2200301 c 4500
001 koha001149275
005 20241216121126.0
007 cr |
008 241212s2024 ru fs 100 0 eng d
035 |a koha001149275 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
100 1 |a Dyukov, I. Y. 
245 1 0 |a RHEED patterns from 2x1 and 1x2 superstructures during epitaxy of Si on Si(100)  |c I. Y. Dyukov, A. A. Burnashov 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 5 назв. 
520 3 |a This paper analyzes the growth of Si on Si (100) substrate in a wide temperature range by reflection high-energy electron diffraction method (RHEED) and studies its mechanisms. 
653 |a молекулярно-лучевая эпитаксия 
653 |a суперструктуры 
653 |a дифракция отраженных высокоэнергетических электронов 
653 |a кремний 
655 4 |a статьи в сборниках 
700 1 |a Burnashov, A. A. 
773 0 |t Двадцать первая Всероссийская конференция студенческих научно-исследовательских инкубаторов, Томск, 13−17 мая 2024 г. : сборник трудов  |d Томск, 2024  |g С. 128  |z 9785936297168  |w koha001147414 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001149275 
908 |a статья 
999 |c 1149275  |d 1149275