Изучение спектральных зависимостей показателя поглощения слоев GeSn и GeSiSn различного состава, полученных методом молекулярно-лучевой эпитаксии
Проводятся исследования показателя поглощения в ближнем ИК-диапазоне слоев GeSn и GeSiSn различных составов с содержанием кремния до 63% и олова до 14%, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изучены две серии образцов, полученных на наноструктурированной фасетированной поверхности и н...
| Published in: | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 67, № 12. С. 22-30 |
|---|---|
| Other Authors: | Тимофеев, Вячеслав Алексеевич, Скворцов, Илья Владимирович, Машанов, Владимир Иванович, Перевалов, Тимофей Викторович, Исламов, Дамир Ревинирович, Азаров, Иван Алексеевич, Ярошевич, Александр Сергеевич |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001151242 Перейти в каталог НБ ТГУ |
Similar Items
- Synthesis of epitaxial films based on Ge-Si-Sn materials with Ge/GeSn, Ge/GeSiSn, and GeSn/GeSiSn heterojunctions
- Синтез эпитаксиальных пленок на базе материалов Ge-Si-Sn с гетеропереходами Ge/GeSn, Ge/GeSiSn, GeSn/GeSiSn
- Morphology, structure, and optical properties of semiconductor films with GeSiSn nanoislands and strained layers
- Formation of SnO and SnO2 phases during the annealing of SnO(x) films obtained by molecular beam epitaxy
- Влияние различных методов отжига на инфракрасную фотолюминесценцию наногетероструктур GeSiSn/Ge/Si с множественными квантовыми ямами
