Генерация лазерного излучения транс-стильбеном и его метилзамещенными
Генерационные свойства и фотостабильность транс-стильбена и его метилзамещенных в растворах исследованы при накачке излучением эксимерного XeCl-лазера. Показано, что фотостабильность соединений зависит от интенсивности из-лучения накачки, а именно она возрастает при увеличении интенсивности облуче...
| Опубликовано в: : | Оптика атмосферы и океана Т. 13, № 3. С. 286-288 |
|---|---|
| Другие авторы: | , , , |
| Формат: | Статья в журнале |
| Язык: | Russian |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001153358 Перейти в каталог НБ ТГУ |
| Итог: | Генерационные свойства и фотостабильность транс-стильбена и его метилзамещенных в растворах исследованы при накачке излучением эксимерного XeCl-лазера. Показано, что фотостабильность соединений зависит от интенсивности из-лучения накачки, а именно она возрастает при увеличении интенсивности облучения. Этот факт объясняется возможной конкуренцией процессов фотоизомеризации молекул и вынужденного излучения |
|---|---|
| Библиография: | Библиогр.: 9 назв. |
| ISSN: | 0869-5695 |