Электропроводность и деградационные процессы в формованной тонкопленочной структуре металл-диэлектрик-металл на основе оксинитрида кремния диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук : 01.04.10
Main Author: | Лубсанов, Ринчин Балданович |
---|---|
Corporate Author: | Томский институт автоматизированных систем управления и радиоэлектроники |
Other Authors: | Воробьев, Григорий Абрамович 1925-2009 (Thesis advisor) |
Format: | Book |
Language: | Russian |
Published: |
Томск
[б. и.]
1986
|
Subjects: | |
Online Access: | Перейти в каталог НБ ТГУ |
Similar Items
-
Электрофизические свойства диэлектрических пленок в МДМ-структурах
by: Данилина, Тамара Ивановна -
Влияние микрорельефа электрода и толщины диэлектрика на электрическую прочность и напряженность электрического поля формовки тонкопленочных структур металл-диэлектрик-металл
by: Троян, П. Е. -
Исследование механизма токопереноса в системе металл - халькогенидное стекло - металл (полупроводник) диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук
by: Базаров, Владимир Дугарович
Published: (1967) -
Электрические и фотоэлектрические свойства структур металл-халькогенидное стекло (Te48 As30 Si12 Ge10) - металл диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук
by: Бадлуев, Алексей Ильич
Published: (1981) -
Электролюминесценция в формированных МДМ-структурах
by: Калистратов, С. В.