Исследование влияния технологических режимов на электрофизические и оптические свойства аморфного гидрогенизированного карбида кремния, получаемого методом высокочастотного инноплазменного распыления Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук. 01.04.10

Bibliographic Details
Main Author: Свиркова, Наталья Николаевна
Format: Book
Language:Russian
Published: М. 1997
Subjects:
Online Access:Перейти в каталог НБ ТГУ
LEADER 01665nam a2200241 4500
001 vtls000038103
003 RU-ToGU
005 20230319141128.0
008 091028s1997 ru f m 00| | rus d
035 |a 0040-36260 
039 9 |a 200910282119  |c 200604110818  |d VLOAD  |c 200601031227  |d VLOAD  |y 200511060034  |z Александр Эльверович Гилязов 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU  |e PSBO 
100 1 |a Свиркова, Наталья Николаевна.  |9 126965 
245 1 0 |a Исследование влияния технологических режимов на электрофизические и оптические свойства аморфного гидрогенизированного карбида кремния, получаемого методом высокочастотного инноплазменного распыления  |b Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук. 01.04.10 
260 |a М.  |c 1997  |9 702824 
300 |a 20 с. 
504 |a Библиогр.: с. 19-20 
650 7 |a Физика полупроводников и диэлектриков  |2 БВАК1995N4  |9 56418 
653 |a авторефераты диссертаций. 
852 4 |a RU-ToGU  |h 1-821300к  |i 53  |n ru 
856 |y Перейти в каталог НБ ТГУ  |u https://koha.lib.tsu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=22655 
999 |c 22655  |d 22655 
952 |0 0  |1 0  |4 0  |6 1821300К  |7 0  |9 63879  |a RU-ToGU  |b RU-ToGU  |c 10024  |d 2021-04-02  |g 5000.00  |l 0  |o 1-821300к  |p 13820000225057  |r 2021-04-02  |t 1  |w 2021-04-02  |y 1