Источники электронов с сеточным плазменным эмиттером: прогресс и перспективы

Приводится описание принципов работы и основные характеристики электронных источников на основе плазменных эмиттеров с сеточной/слоевой стабилизацией границы эмиссионной плазмы, генерируемой разрядами низкого давления. Рассматривается достигнутый уровень параметров и перспективы дальнейшего развития...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 63, № 10. С. 7-16
Main Author: Коваль, Николай Николаевич
Other Authors: Девятков, Владимир Николаевич, Воробьев, Максим Сергеевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000788718
Description
Summary:Приводится описание принципов работы и основные характеристики электронных источников на основе плазменных эмиттеров с сеточной/слоевой стабилизацией границы эмиссионной плазмы, генерируемой разрядами низкого давления. Рассматривается достигнутый уровень параметров и перспективы дальнейшего развития электронных источников, предназначенных для генерации в вакууме импульсных высокоплотных (с плотностью энергии до 100 Дж/(см2·имп.)) низкоэнергетических (5–25 кэВ, 50–500 А), высокоэнергетических сильноточных (до 100 кэВ, >~ 1кА)) электронных пучков c энергосодержанием пучка до 5 кДж и частотно-импульсных (30 мкс, 50 с–1) электронных пучков большого сечения (>~ 1000 см2) с энергией электронов до 250 кэВ и токами до 100 А, выведенных в атмосферу через выпускное фольговое окно. Рассмотрены особенности генерации эмиссионной плазмы дуговыми разрядами низкого давления в сеточных плазменных эмиттерах и извлечения из нее электронов, особенности работы разрядной системы плазменных эмиттеров, частично погруженных в неоднородное магнитное поле, и особенности формирования и транспортировки высокоплотных низкоэнергетических электронных пучков в продольном магнитном поле. Указаны области применения электронных источников на основе сеточных плазменных эмиттеров и реализуемые с их помощью процессы и технологии.
Bibliography:Библиогр.: 56 назв.
ISSN:0021-3411
Access:Ограниченный доступ