Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Библиографическая информация
Главный автор:	Берлин, Евгений Владимирович
Другие авторы:	Сейдман, Лев Александрович
Формат:	Книга
Язык:	Russian
Публикация:	Москва Техносфера 2010
Серии:	Мир материалов и технологий
Предметы:	справочные руководства тонкопленочные технологии вакуумные плазмохимические процессы электрический пробой катоды магнетронов распыление магнетронное реактивное ионно- плазменные процессы. твердые покрытия тройные химические соединения сораспыление неоднородные магнитные поля. неравномерное нанесение пленки управление процессами распыления структура пленок. управление структурой пленок гистерезисные явления математическое моделирование процессов реактивного распыления вакуумные напылительные установки Caroline D12 A ТСП- источники плазмы установки плазмохимического травления
Online-ссылка:	Перейти в каталог НБ ТГУ

Internet

Перейти в каталог НБ ТГУ

Научная библиотека ТГУ: Книгохранилище

Подробно о фондах из Научная библиотека ТГУ: Книгохранилище
Шифр:	1-994188к
	В каталоге библиотеки Зарезервировать

Научная библиотека ТГУ: Читальный зал 5

Подробно о фондах из Научная библиотека ТГУ: Читальный зал 5
Шифр:	621.3 Б492
	В каталоге библиотеки Зарезервировать