Открепление уровня Ферми в системе InAs-диэлектрик при пассивации границы раздела тонким фторированным анодным окислом

Bibliographic Details
Published in:Девятая конференция "Арсенид галлия и полупроводниковые соединения группы III-V", 3-5 октября 2006 г., Томск, Россия : материалы конференции С. 156-159
Other Authors: Валишева, Наталья Александровна, Гузев, Александр Александрович, Курышев, Георгий Леонидович
Format: Book Chapter
Language:Russian
Subjects:
Online Access:Перейти в каталог НБ ТГУ
LEADER 01665naa a2200277 i 4500
001 vtls000418845
003 RU-ToGU
005 20210404141313.0
008 120109s2006 ru a f 100 0 rus d
035 |a to000418845 
039 9 |y 201201090940  |z Александр Эльверович Гилязов  |b Александр Эльверович Гилязов 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
080 |a 537.311.322:546.681'191.1 
080 |a 621.315.592:546.681'191.1 
245 1 0 |a Открепление уровня Ферми в системе InAs-диэлектрик при пассивации границы раздела тонким фторированным анодным окислом  |c Н. А. Валишева, А. А. Гузев, Г. Л. Курышев и др. 
504 |a Библиогр.: 10 назв. 
653 |a МДП-структуры 
653 |a полупроводники 
700 1 |a Валишева, Наталья Александровна  |9 296636 
700 1 |a Гузев, Александр Александрович  |9 378927 
700 1 |a Курышев, Георгий Леонидович.  |9 378928 
773 0 |t Девятая конференция "Арсенид галлия и полупроводниковые соединения группы III-V", 3-5 октября 2006 г., Томск, Россия : материалы конференции  |d Томск, 2006  |g С. 156-159  |w to000223791 
852 |a RU-ToGU 
856 |y Перейти в каталог НБ ТГУ  |u https://koha.lib.tsu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=308086 
908 |a статья 
999 |c 308086  |d 308086