МЛЭ нанокластеры GE на поверхности Si(100). Картины ДБЭ и АСМ-изображения
Published in: | Молодежная научная конференция Томского государственного университета, 2009 г. Вып. 2 Вып. 2 : Проблемы естествознания. С. 415-417 |
---|---|
Main Author: | Торопов, Никита Александрович |
Corporate Authors: | Томский государственный университет Радиофизический факультет Публикации студентов и аспирантов РФФ, Томский государственный университет Научное управление Лаборатории НУ |
Other Authors: | Романов, Иван Сергеевич |
Format: | Book Chapter |
Language: | Russian |
Subjects: | |
Online Access: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000425155 Перейти в каталог НБ ТГУ |
Similar Items
-
Особенности осцилляций интенсивности дифракционных картин при эпитаксии Si/Si(100) и Ge/Si(100)
by: Кукенов, Олжас Игоревич - Анализ дифракционных картин при эпитаксиальном росте Si на Si(001) в направлениях пучка электронов [110] и [100]
- Анализ дифракционных картин при синтезе наногетероструктур Ge/Si
- Анализ изменения поверхности при росте Ge, GeSi на Si(100) и Si(111) методом дифракции быстрых электронов
-
Изучение формирования ступенчатой поверхности Si(100) при молекулярно-лучевой эпитаксии
by: Есин, Михаил Юрьевич