Структура и свойства нанокристаллических покрытий Ti-Si-N, синтезированных в вакууме электродуговым методом
Published in: | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 50, № 2. С. 46-51 |
---|---|
Corporate Authors: | Томский государственный университет Физический факультет Кафедра физики плазмы, Томский государственный университет Физический факультет Научные подразделения ФФ |
Other Authors: | Коваль, Николай Николаевич, Гончаренко, Игорь Михайлович, Крысина, Ольга Васильевна, Колубаева, Юлия Александровна, Кошкин, Константин Алексеевич, Иванов, Юрий Федорович 1955- |
Format: | Article |
Language: | Russian |
Subjects: | |
Online Access: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000502331 |
Similar Items
- Generation of low-temperature plasma by low-pressure arcs for synthesis of nitride coatings
- Исследование ионно-плазменных нитридных покрытий, полученных распылением композиционных порошковых катодов Ti-Al-Si
-
Микроструктура нанокомпозитных сверхтвердых покрытий системы Ti-Si-B-N и Ti-Si-Al-N
by: Мошков, Владимир Юрьевич - Влияние параметров осаждения на сверхтвердость и стехиометрию наноструктурных пленок Ti-Hf-Si-N
- Влияние условий горения электродугового разряда на размер микрокапельной фракции в нитридном покрытии