LEADER 01914naa a2200337 c 4500
001 vtls000669937
003 RU-ToGU
005 20241128121849.0
008 191119s2004 ru f 110 0 rus d
035 |a to000669937 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
245 1 0 |a Влияние фонового излучения на фотоэлектрические свойства эпитаксиальных пленок КРТ МЛЭ  |c А. В. Войцеховский, А. П. Коханенко, М. Ф. Филатов, А. В. Григорук 
504 |a Библиогр.: с. 389 
653 |a физико-химические процессы 
653 |a неорганические материалы 
653 |a полупроводниковые материалы 
653 |a труды ученых ТГУ 
653 |a ИК-диапазон 
653 |a молекулярно-лучевая эпитаксия 
653 |a эпитаксиальные пленки 
653 |a кадмий-ртуть-теллур 
653 |a фотоэлектрические свойства 
653 |a твердые растворы 
700 1 |a Войцеховский, Александр Васильевич 
700 1 |a Коханенко, Андрей Павлович 
700 1 |a Филатов, Михаил Федорович 
700 1 |a Григорук, А. В. 
773 0 |t Физико-химические процессы в неорганических материалах (ФХП-9). Т. 2 : международная конференция : посвящается 50-летию Кемеровского государственного университета, 22-25 сентября 2004 года : доклады  |d Кемерово, 2004  |g Т. 2. С. 385-389  |z 5202007094  |w 0207-68560 
852 4 |a RU-ToGU 
908 |a статья 
999 |c 454424  |d 454424