Взаимосвязь качества маскирующего рельефа с условиями нанесения фоторезиста ФП-9120 и подготовки поверхности подложки
Published in: | Химия редких и редкоземельных элементов и современные материалы : Материалы Российской научно-практической конференции, посвященной 90-летию профессора В. В. Серебренникова (11-13 октября 2001 г., Томск) С. 69-70 |
---|---|
Main Author: | Анищенко, Екатерина Валентиновна |
Other Authors: | Еремина, Нина Степановна, Мокроусов, Геннадий Михайлович |
Format: | Book Chapter |
Language: | Russian |
Subjects: | |
Online Access: | Перейти в каталог НБ ТГУ |
Similar Items
-
Исследование светочувствительности двухслойного фоторезиста
by: Гудымович, Елена Никифоровна -
Модификация позитивных фоторезистов введением кремнийорганических соединений
by: Гудымович, Елена Никифоровна -
Практическая фотолитография Учебное пособие для студентов университетов и других учебных заведений химических специальностей
by: Гудымович, Елена Никифоровна
Published: (1998) -
Effect of preliminary vacuum plasma treatment on coating adhesion
by: Slabodchikov, Vladimir A. -
Литографические характеристики позитивного фоторезиста на основе нафтохинондиазида в зависимости от условий нанесения и обработки поверхности подложки
by: Анищенко, Екатерина Валентиновна