Взаимосвязь качества маскирующего рельефа с условиями нанесения фоторезиста ФП-9120 и подготовки поверхности подложки
Опубликовано в: : | Химия редких и редкоземельных элементов и современные материалы : Материалы Российской научно-практической конференции, посвященной 90-летию профессора В. В. Серебренникова (11-13 октября 2001 г., Томск) С. 69-70 |
---|---|
Главный автор: | Анищенко, Екатерина Валентиновна |
Другие авторы: | Еремина, Нина Степановна, Мокроусов, Геннадий Михайлович |
Формат: | Статья в сборнике |
Язык: | Russian |
Предметы: | |
Online-ссылка: | Перейти в каталог НБ ТГУ |
Похожие документы
-
Исследование светочувствительности двухслойного фоторезиста
по: Гудымович, Елена Никифоровна -
Модификация позитивных фоторезистов введением кремнийорганических соединений
по: Гудымович, Елена Никифоровна -
Практическая фотолитография Учебное пособие для студентов университетов и других учебных заведений химических специальностей
по: Гудымович, Елена Никифоровна
Публикация: (1998) -
Effect of preliminary vacuum plasma treatment on coating adhesion
по: Slabodchikov, Vladimir A. -
Литографические характеристики позитивного фоторезиста на основе нафтохинондиазида в зависимости от условий нанесения и обработки поверхности подложки
по: Анищенко, Екатерина Валентиновна