Диффузия примесей и собственных точечных дефектов в арсениде галлия

В монографии систематизированы наиболее важные, по нашему мнению, данные, касающиеся процесса диффузии в арсениде галлия собственных точечных дефектов, донорных, акцепторных примесей, примесей с глубокими энергетическими уровнями, образованию дислокаций в процессе диффузии примесей. Обсуждены механи...

Full description

Bibliographic Details
Corporate Author: Томский государственный университет
Other Authors: Хлудков, Станислав Степанович, Прудаев, Илья Анатольевич, Толбанов, Олег Петрович, Ивонин, Иван Варфоломеевич
Format: eBook
Language:Russian
Published: Томск Издательство Томского государственного университета 2022
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000925804
Description
Summary:В монографии систематизированы наиболее важные, по нашему мнению, данные, касающиеся процесса диффузии в арсениде галлия собственных точечных дефектов, донорных, акцепторных примесей, примесей с глубокими энергетическими уровнями, образованию дислокаций в процессе диффузии примесей. Обсуждены механизмы диффузионных процессов. Для широкого круга специалистов – научных сотрудников, инженеров, преподавателей, аспирантов и студентов старших курсов, специализирующихся в области физики и технологии полупроводниковых материалов и микроэлектроники.
Item Description:Посвящается 70-летию радиофизического факультета Томского государственного университета
Physical Description:246 с. ил., табл.
Bibliography:Библиогр. в конце глав
ISBN:9785907572058