Электронно-ионное оборудование технологического назначения: /
| Главный автор: | Носков, Д. А. Дмитрий Александрович (Автор) |
|---|---|
| Соавтор: | Министерство высшего и среднего специального образования РСФСР21 Томский институт автоматизированных систем управления и радиоэлектроники |
| Формат: | Книга |
| Публикация: |
Томск:
Издательство ТГУ
1973
|
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | Перейти в каталог Библиотеки ТУСУР |
Похожие документы
-
Ионное травление микроструктур
по: Данилин, Борис Степанович
Публикация: (1979) -
Ионное легирование полупроводников/
по: Зорин, Е. И. Евгений Иванович, et al.
Публикация: (1975) -
Приповерхностное протонно-ионное легирование оптических силикатных стекол Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук. 05.17.11
по: Иголинская, Марина Александровна
Публикация: (1995) -
Ионное травление микроструктур: научное издание/
по: Данилин Борис Степанович, et al.
Публикация: (1979) -
Ионное легирование полупроводников. (Кремний и германий): Пер. с англ./
по: Мейер, Дж, et al.
Публикация: (1973)
