Особенности применения плазменных технологий для формирования наноразмерных элементов плазмоники и гетероструктурных свч транзисторов: автореферат диссертации ... кандидата технических наук: 01.04.04/

Особенности применения плазменных технологий для формирования наноразмерных элементов плазмоники и гетероструктурных свч транзисторов: автореферат диссертации ... кандидата технических наук: 01.04.04/

Библиографическая информация
Главный автор:	Филлипов, И. А. Иван Андреевич (Автор)
Соавтор:	Национальный исследовательский Томский государственный университет(Томск)21 Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук(Москва)
Формат:	Книга
Язык:	Russian
Публикация:	Томск 2020
Предметы:	ПЛАЗМЕННОЕ ТРАВЛЕНИЕ ТРАНЗИСТОРЫ УЗКОНАПРАВЛЕННОЕ ИЗЛУЧЕНИЕ НАПРЯЖЕНИЕ ТРАВЛЕНИЕ
Online-ссылка:	https://viewer.rsl.ru/ru/rsl01010255023?page=1&rotate=0&theme=white Перейти в каталог Библиотеки ТУСУР

Похожие документы

Особенности применения плазменных технологий для формирования наноразмерных элементов плазмоники и гетероструктурных свч транзисторов: диссертация ... кандидата технических наук: 01.04.04/
по: Филлипов, И. А. Иван Андреевич
Публикация: (2020)

Плазменное травление в технологии InAlN/GaN HEMT

Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов
по: Данилин, Борис Степанович
Публикация: (1987)

Процессы плазменного травления в микро- и нанотехнологиях [учебное пособие для студентов высших учебных заведений, обучающихся по направлению подготовки 210100 "Электроника и микроэлектроника"]
по: Галперин, Вячеслав Александрович
Публикация: (2010)

Исследование омических контактов НЕМТ транзисторов на основе GaN: диссертация ... кандидата технических наук. Спец. 01.04.04 - Физическая электроника/
по: Сим, П. Е. Павел Евгеньевич
Публикация: (2018)

Оптимизация скорости травления Si в плазме CF4/O2
по: Григорьев, Юрий Николаевич

Влияние режимов горения дугового разряда низкого давления и генерируемой им газоразрядной плазмы на травление поверхности материалов

Физико-химические основы технологии полупроводниковых материалов и структур: учебное пособие/
по: Битнер, Л. Р.
Публикация: (2010)

Учебно-методическое пособие для самостоятельной работы студентов по дисциплине "Плазменные технологии в наноэлектронике"
по: Голишников, Александр Анатольевич
Публикация: (2011)

Примерная программа учебной дисциплины "Плазменные технологии в наноэлектронике"
Публикация: (2011)

Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников
Публикация: (1982)

Плазмохимическое и ионно-химическое травление микроструктур: научное издание/
по: Киреев, В. Ю. Валерий Юрьевич, et al.
Публикация: (1983)

Способ безрезистного травления пленок диоксида кремния в «окнах» фотолитографического рисунка
по: Гудымович, Елена Никифоровна

Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем: учебное пособие для вузов: в 2 ч./
по: Королев, М. А. Михаил Александрович, et al.
Публикация: (2012)

Ионное травление микроструктур: научное издание/
по: Данилин Борис Степанович, et al.
Публикация: (1979)

Ионно-плазменные технологии в производстве СБИС: Учебное пособие/
по: Данилина, Т. И. Тамара Ивановна, et al.
Публикация: (2000)

Формирование пористого кремния методами металл-стимулированного химического травления и электрохимического травления
по: Круковский, Константин Витальевич

Учебное пособие по дисциплине "Плазменные технологии в наноэлектронике"
по: Голишников, Александр Анатольевич
Публикация: (2011)

Травление кристаллов Теория. Эксперимент. Применение
по: Сангвал, Кешра
Публикация: (1990)

Лабораторный практикум по дисциплине "Плазменные технологии в наноэлектронике" [по направлению 210100 "Электроника и наноэлектроника"]
по: Голишников, Александр Анатольевич
Публикация: (2011)

Травление на металлообрабатывающих заводах
по: Мастерков, Тимофей Андреевич
Публикация: (1942)

Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий в 2 т.
Публикация: (2010)

Травление металлов учебное пособие для подготовки рабочих на пр-ве
по: Ямпольский, Анатолий Михайлович
Публикация: (1980)

Травление кристаллов: Теория, эксперимент, применение: Пер. с англ./
по: Сангвал, К. Кешра
Публикация: (1990)

Оборудование для плазменной обработки материалов изделий электронной техники (по данным отечественной и зарубежной печати за 1980-1987 гг.)
по: Таран, Владимир Маркович
Публикация: (1987)

О природе трещин на примере монокристаллического кремния, подвергнутого анодному травлению

Background donor concentration in HgCdTe

Численное моделирование радиального плазмохимического реактора
по: Григорьев, Юрий Николаевич

Изменение поверхности монокристаллов антрацена в процессе травления

The surface roughening of GaN by wet chemical etching

Ion implantation and ion milling in MBE Hg1-xCdxNe films

Проблемы микроэлектронной технологии Сборник статей
Публикация: (1994)

Лазерные микротехнологии и их применения в электронике: научное издание/
по: Альтудов, Ю. К. Юрий Камбулатович, et al.
Публикация: (2001)

Изучение развития анодного растворения гетерофазного электрода путем анализа изображений поверхности
по: Тарасова, Н. В.

Исследование и разработка технологических процессов внутреннего монтажа бескорпусных микросхем на основе полиимидных микроструктур для производства высокоинтегрированных микросборок: автореферат диссертации ... кандидата технических наук: 05.27.06/
по: Вертянов, Д. В. Денис Васильевич
Публикация: (2020)

Вода с дезактивированным кислородом для промывки поверхности полупроводников AIIIBV после химического травления
по: Мокроусов, Геннадий Михайлович

Long-term stability of electron concentration in HgCdTe-based p-n junctions fabricated with ion etching

Математическое моделирование процессов травления
по: Ивашковская, И. С.

Долговременная стабильность CdHgTe n+-n-структур, сформированных ионным травлением

Релаксация и долговременная стабильность МЛЭ CdHgTe n+-n-структур, сформированных ионным травлением