Взаимодействие примесей Zn и Ni с технологическими примесями в кремнии

Приведены результаты исследований взаимодействия атомов примесей цинка и никеля в кремнии, легированных последовательно, в различных комбинациях c помощью метода рентгеновской дифракции и ИК-фурье-спектрометрии. Степень кристалличности решетки кремния, легированного примесями Zn, Ni, зависит от техн...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 66, № 5. С. 53-59
Main Author: Есбергенов, Дарьябай Муратбаевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001004106
LEADER 02607nab a2200361 c 4500
001 koha001004106
005 20230809155445.0
007 cr |
008 230629|2023 ru s c rus d
024 7 |a 10.17223/00213411/66/5/7  |2 doi 
035 |a koha001004106 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
100 1 |a Есбергенов, Дарьябай Муратбаевич 
245 1 0 |a Взаимодействие примесей Zn и Ni с технологическими примесями в кремнии  |c Д. М. Есбергенов 
246 1 1 |a Interaction of Zn and Ni impurities with technological impurities in silicon 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 20 назв. 
506 |a Ограниченный доступ 
520 3 |a Приведены результаты исследований взаимодействия атомов примесей цинка и никеля в кремнии, легированных последовательно, в различных комбинациях c помощью метода рентгеновской дифракции и ИК-фурье-спектрометрии. Степень кристалличности решетки кремния, легированного примесями Zn, Ni, зависит от технологии введения данных примесей. Было обнаружено, что после введения атомов Zn в Si, предварительно легированный Ni (Si<Ni, Zn>), вместе с уменьшением концентрации атомов оптически-активного кислорода улучшается прозрачность кристалла, в то время как в образцах при обратной комбинации легирования (Si<Zn, Ni>) наблюдается обратный эффект. 
653 |a кремний 
653 |a цинк 
653 |a никель 
653 |a диффузия 
653 |a рентгеновские спектры 
653 |a рентгеновская дифракция 
653 |a ИК-спектроскопия 
655 4 |a статьи в журналах 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2023  |g Т. 66, № 5. С. 53-59  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001004106 
908 |a статья 
999 |c 1004106  |d 1004106