Формирование силицидных пленок металлов ионными методами
Исследована возможность формирования пленок силицидов металлов ионными методами, реализованными с помощью ионно-плазменного распыления в устройстве на основе пеннинговского разряда, а также комбинацией методов термического испарения металлов в высоком вакууме с ассистированием ионным пучком кремни...
| Published in: | Прикладная физика № 6. С. 68-75 |
|---|---|
| Main Author: | |
| Other Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Subjects: | |
| Online Access: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001010791 Перейти в каталог НБ ТГУ |
| LEADER | 03932nab a2200385 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | koha001010791 | ||
| 005 | 20240227171941.0 | ||
| 007 | cr | | ||
| 008 | 231121|2022 ru s c rus d | ||
| 024 | 7 | |a 10.51368/1996-0948-2022-6-68-75 |2 doi | |
| 035 | |a koha001010791 | ||
| 040 | |a RU-ToGU |b rus |c RU-ToGU | ||
| 100 | 1 | |a Данилина, Тамара Ивановна |9 353616 | |
| 245 | 1 | 0 | |a Формирование силицидных пленок металлов ионными методами |c Т. И. Данилина, И. А. Чистоедова, Е. С. Полынцев |
| 246 | 1 | 1 | |a Ion formation of metal silicide films |
| 336 | |a Текст | ||
| 337 | |a электронный | ||
| 504 | |a Библиогр.: 11 назв. | ||
| 506 | |a Ограниченный доступ | ||
| 520 | 3 | |a Исследована возможность формирования пленок силицидов металлов ионными методами, реализованными с помощью ионно-плазменного распыления в устройстве на основе пеннинговского разряда, а также комбинацией методов термического испарения металлов в высоком вакууме с ассистированием ионным пучком кремния. Установлен механизм образования силицидных пленок на различных подложках при сравнительно низкой температуре подложек до 300 оС в условиях ограниченного воздействия плазмы. Изготовлены экспериментальные образцы на основе силицидов Mo, W, W-Re, Ti в широком диапазоне сопротивлений 20-600 Ом/□ с температурным коэффициентом сопротивления (ТКС) менее 10-4 град-1, что позволяет их рекомендовать в качестве проводящих и резистивных слоев для элементов микро- и наноэлектроники. Параметры методов с ассистированием ионными пучками были установлены с помощью моделирования процессов внедрения ионов, осаждения титана с учетом распыления и последующей экспериментальной отработкой режимов при получении пленок силицидов титана. При отжиге при 700 оС состав пленок был близок к дисилициду титана, сопротивление образцов уменьшилось до 1,6 Ом/□, что позволяет рекомендовать разработанные ионные методы в КМОП-технологиях. | |
| 653 | |a силициды металлов | ||
| 653 | |a ионно-лучевая обработка | ||
| 653 | |a КМОП-структуры | ||
| 653 | |a низкотемпературные методы | ||
| 653 | |a силициды | ||
| 655 | 4 | |a статьи в журналах |9 905471 | |
| 700 | 1 | |a Чистоедова, Инна Анатольевна |9 278740 | |
| 700 | 1 | |a Полынцев, Егор Сергеевич |9 881217 | |
| 773 | 0 | |t Прикладная физика |d 2022 |g № 6. С. 68-75 |x 1996-0948 |w 0099-44260 | |
| 852 | 4 | |a RU-ToGU | |
| 856 | 4 | |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001010791 | |
| 856 | |y Перейти в каталог НБ ТГУ |u https://koha.lib.tsu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=1010791 | ||
| 908 | |a статья | ||
| 039 | |z 106 |b 100 | ||
| 999 | |c 1010791 |d 1010791 | ||