Формирование силицидных пленок металлов ионными методами

Исследована возможность формирования пленок силицидов металлов ионными методами, реализованными с помощью ионно-плазменного распыления в устройстве на основе пеннинговского разряда, а также комбинацией методов термического испарения металлов в высоком вакууме с ассистированием ионным пучком кремния....

Full description

Bibliographic Details
Published in:Прикладная физика № 6. С. 68-75
Main Author: Данилина, Тамара Ивановна
Other Authors: Чистоедова, Инна Анатольевна, Полынцев, Егор Сергеевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001010791
LEADER 03718nab a2200361 c 4500
001 koha001010791
005 20240227171941.0
007 cr |
008 231121|2022 ru s c rus d
024 7 |a 10.51368/1996-0948-2022-6-68-75  |2 doi 
035 |a koha001010791 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
100 1 |a Данилина, Тамара Ивановна 
245 1 0 |a Формирование силицидных пленок металлов ионными методами  |c Т. И. Данилина, И. А. Чистоедова, Е. С. Полынцев 
246 1 1 |a Ion formation of metal silicide films 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 11 назв. 
506 |a Ограниченный доступ 
520 3 |a Исследована возможность формирования пленок силицидов металлов ионными методами, реализованными с помощью ионно-плазменного распыления в устройстве на основе пеннинговского разряда, а также комбинацией методов термического испарения металлов в высоком вакууме с ассистированием ионным пучком кремния. Установлен механизм образования силицидных пленок на различных подложках при сравнительно низкой температуре подложек до 300 оС в условиях ограниченного воздействия плазмы. Изготовлены экспериментальные образцы на основе силицидов Mo, W, W-Re, Ti в широком диапазоне сопротивлений 20-600 Ом/□ с температурным коэффициентом сопротивления (ТКС) менее 10-4 град-1, что позволяет их рекомендовать в качестве проводящих и резистивных слоев для элементов микро- и наноэлектроники. Параметры методов с ассистированием ионными пучками были установлены с помощью моделирования процессов внедрения ионов, осаждения титана с учетом распыления и последующей экспериментальной отработкой режимов при получении пленок силицидов титана. При отжиге при 700 оС состав пленок был близок к дисилициду титана, сопротивление образцов уменьшилось до 1,6 Ом/□, что позволяет рекомендовать разработанные ионные методы в КМОП-технологиях. 
653 |a силициды металлов 
653 |a ионно-лучевая обработка 
653 |a КМОП-структуры 
653 |a низкотемпературные методы 
653 |a силициды 
655 4 |a статьи в журналах 
700 1 |a Чистоедова, Инна Анатольевна 
700 1 |a Полынцев, Егор Сергеевич 
773 0 |t Прикладная физика  |d 2022  |g  № 6. С. 68-75  |x 1996-0948  |w 0099-44260 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001010791 
908 |a статья 
999 |c 1010791  |d 1010791