Пропуск в контексте
  • Язык
    • English
    • Русский

Расширенный поиск
  • Поиск
  • Анализ дифракционных картин пр...
  • Цитировать
  • Печать
  • Запись для экспорта
    • Экспорт в RefWorks
    • Экспорт в EndNoteWeb
    • Экспорт в EndNote
  • Permanent link
Анализ дифракционных картин при эпитаксиальном росте Si на Si(001) в направлениях пучка электронов [110] и [100]

Анализ дифракционных картин при эпитаксиальном росте Si на Si(001) в направлениях пучка электронов [110] и [100]

Библиографическая информация
Опубликовано в: :Актуальные проблемы радиофизики АПР-2023 : 10-я Международная научно-практическая конференция, 26-29 сентября 2023 года, г. Томск : сборник трудов конференции С. 293-294
Другие авторы: Соколов, Арсений Сергеевич, Кукенов, Олжас Игоревич, Дирко, Владимир Владиславович, Лозовой, Кирилл Александрович, Коханенко, Андрей Павлович
Формат: Статья в сборнике
Язык:Russian
Предметы:
дифракция быстрых электронов
эпитаксиальные слои кремния
молекулярно-лучевая эпитаксия
полупроводниковые наноструктуры
статьи в сборниках
Online-ссылка:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001132347
  • Фонды
  • Описание
  • Похожие документы
  • Marc-запись

Internet

http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001132347

Похожие документы

  • Особенности осцилляций интенсивности дифракционных картин при эпитаксии Si/Si(100) и Ge/Si(100)
    по: Кукенов, Олжас Игоревич
  • Картины дифракции структур 1x2 и 2x1 при эпитаксии Si на Si(100)
  • Анализ дифракционных картин при синтезе наногетероструктур Ge/Si
  • Влияние электронного пучка дифракции быстрых электронов на морфологию поверхности гетероструктур CaF2/Si(100)
    по: Остертак, Д. И.
  • Анализ изменения поверхности при росте Ge, GeSi на Si(100) и Si(111) методом дифракции быстрых электронов
|   Расширенный поиск   |   Советы для поиска   |

Большой университет Томска
https://university-tomsk.ru/
Загрузка...