Электрические характеристики МДП-структур на основе МЛЭ n-Hg1-xCdxTe (x = 0,29-0,31) с резкими неоднородностями по составу

Исследовано влияние областей с периодическими резкими неоднородностями по составу толщиной 48-54 нм на электрофизические характеристики МДП-структур на основе варизонного n-Hg1-xCdxTe с x = 0,29-0,31, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Установлено, что основные электрофизические и...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 54, № 3. С. 3-9
Other Authors: Войцеховский, Александр Васильевич, Несмелов, Сергей Николаевич, Дзядух, Станислав Михайлович, Варавин, Василий Семенович, Дворецкий, Сергей Алексеевич, Михайлов, Николай Николаевич физик, Сидоров, Юрий Георгиевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001133474
Перейти в каталог НБ ТГУ
LEADER 03706nab a2200385 c 4500
001 koha001133474
005 20241016174113.0
007 cr |
008 240416|2011 ru s c rus d
035 |a koha001133474 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
245 1 0 |a Электрические характеристики МДП-структур на основе МЛЭ n-Hg1-xCdxTe (x = 0,29-0,31) с резкими неоднородностями по составу  |c А. В. Войцеховский, С. Н. Несмелов, С. М. Дзядух [и др.] 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 14 назв. 
520 3 |a Исследовано влияние областей с периодическими резкими неоднородностями по составу толщиной 48-54 нм на электрофизические характеристики МДП-структур на основе варизонного n-Hg1-xCdxTe с x = 0,29-0,31, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Установлено, что основные электрофизические и фотоэлектрические характеристики качественно сходны для МДП-структур на основе n-Hg1-xCdxTe с резкими неоднородностями по составу («барьеры») и без «барьеров». Показано, что наибольшее влияние на электрические характеристики оказывают «барьерные области», расположенные непосредственно вблизи границы раздела диэлектрик - полупроводник. Это влияние заключается в увеличении эффективной толщины диэлектрика, что может быть вызвано тем, что области повышенного состава образуют потенциальные барьеры для электронов, а также в уменьшении времени релаксации неравновесных носителей из-за рекомбинации на границах областей с резким изменением состава. 
653 |a МДП-структуры 
653 |a теллурид кадмия-ртути 
653 |a варизонные слои 
653 |a барьерные области 
655 4 |a статьи в журналах  |9 957939 
700 1 |a Войцеховский, Александр Васильевич  |9 64789 
700 1 |a Несмелов, Сергей Николаевич  |9 65140 
700 1 |a Дзядух, Станислав Михайлович  |9 80402 
700 1 |a Варавин, Василий Семенович  |9 90984 
700 1 |a Дворецкий, Сергей Алексеевич  |9 90983 
700 1 |a Михайлов, Николай Николаевич  |c физик  |9 90964 
700 1 |a Сидоров, Юрий Георгиевич  |9 149876 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2011  |g Т. 54, № 3. С. 3-9  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001133474 
856 |y Перейти в каталог НБ ТГУ  |u https://koha.lib.tsu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=1133474 
908 |a статья 
039 |b 100 
999 |c 1133474  |d 1133474