Нитрид галлия: уровень зарядовой нейтральности и границы раздела

Анализ экспериментальных данных выявил зависимость высоты барьера металл/n-GaN GaN(0001) от работы выхода металла, как и предсказывает модель, которая учитывает уровень зарядовой нейтральности полупроводника. В случае барьеров металл/p-GaN(Mg) имеет место значительный разброс соответствующих экспери...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 58, № 11. С. 121-126
Main Author: Брудный, Валентин Натанович
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141301
LEADER 02074nab a2200277 c 4500
001 koha001141301
005 20240625164446.0
007 cr |
008 240619|2015 ru s c rus d
035 |a koha001141301 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
100 1 |a Брудный, Валентин Натанович 
245 1 0 |a Нитрид галлия: уровень зарядовой нейтральности и границы раздела  |c В. Н. Брудный 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 51 назв. 
520 3 |a Анализ экспериментальных данных выявил зависимость высоты барьера металл/n-GaN GaN(0001) от работы выхода металла, как и предсказывает модель, которая учитывает уровень зарядовой нейтральности полупроводника. В случае барьеров металл/p-GaN(Mg) имеет место значительный разброс соответствующих экспериментальных данных и закрепление приповерхностного уровня Ферми вблизи Ev + 2.5 эВ в большинстве структур, что обусловлено влиянием высокой плотности интерфейсных дефектных состояний, сформированных в процессе легирования GaN примесью Mg. 
653 |a нитрид галлия 
653 |a зарядовая нейтральность 
653 |a границы раздела 
655 4 |a статьи в журналах 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2015  |g Т. 58, № 11. С. 121-126  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141301 
908 |a статья 
999 |c 1141301  |d 1141301