Нитрид галлия: уровень зарядовой нейтральности и границы раздела
Анализ экспериментальных данных выявил зависимость высоты барьера металл/n-GaN GaN(0001) от работы выхода металла, как и предсказывает модель, которая учитывает уровень зарядовой нейтральности полупроводника. В случае барьеров металл/p-GaN(Mg) имеет место значительный разброс соответствующих экспери...
| Опубликовано в: : | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 58, № 11. С. 121-126 |
|---|---|
| Главный автор: | Брудный, Валентин Натанович |
| Формат: | Статья в журнале |
| Язык: | Russian |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141301 |
Похожие документы
-
BN, AlN, GaN, InN: уровень зарядовой нейтральности, поверхность, границы раздела, легирование
по: Брудный, Валентин Натанович -
Зарядовая нейтральность в полупроводниках: дефекты, границы раздела, поверхность
по: Брудный, Валентин Натанович -
Уровень зарядовой нейтральности и электронные свойства межфазных границ в слоистом полупроводнике ε-GaSe
по: Брудный, Валентин Натанович -
Ростовые дефекты в светодиодных структурах InGaN/GaN
по: Брудный, Валентин Натанович - Электрофизические и физико-химические свойства омических контактов для соединений III-N
