Применение тангенциального магнитного поля и импульсно-периодического потенциала смещения для подавления медных макрочастиц вакуумной дуги
Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование ваку-...
| Published in: | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 59, № 6. С. 125-130 |
|---|---|
| Main Author: | |
| Other Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Subjects: | |
| Online Access: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141326 Перейти в каталог НБ ТГУ |
| Summary: | Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование ваку- умно-дугового испарителя с тангенциальным к поверхности катода магнитным полем уменьшает генерацию медных макрочастиц в 5 раз по сравнению с аксиально-симметричным вакуумно-дуговым испарителем, в котором используется нормальное к рабочей поверхности катода магнитное поле. Установлено, что совместное действие тангенциального поля и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения обеспечивает возможность снижения плотности медных макрочастиц на поверхности мишени на 2-3 порядка. |
|---|---|
| Bibliography: | Библиогр.: 12 назв. |
| ISSN: | 0021-3411 |