Температурные зависимости произведения дифференциального сопротивления на площадь в МДП-структурах на основе CdxHg1–xTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии на альтернативных подложках из Si и GaAs

В диапазоне температур 9–200 К экспериментально исследованы температурные зависимости дифференциального сопротивления области пространственного заряда в режиме сильной инверсии для МДП-структур на основе CdₓHg₁₋ₓTe (x = 0.22–0.40), выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изучено влияние н...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 60, № 2. С. 141-150
Other Authors: Войцеховский, Александр Васильевич, Несмелов, Сергей Николаевич, Дзядух, Станислав Михайлович, Варавин, Василий Семенович, Васильев, Владимир Васильевич физик, Дворецкий, Сергей Алексеевич, Михайлов, Николай Николаевич физик, Якушев, Максим Михайлович, Сидоров, Георгий Юрьевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141917
LEADER 03739nab a2200385 c 4500
001 koha001141917
005 20241016174220.0
007 cr |
008 240628|2017 ru s c rus d
035 |a koha001141917 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
245 1 0 |a Температурные зависимости произведения дифференциального сопротивления на площадь в МДП-структурах на основе CdxHg1–xTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии на альтернативных подложках из Si и GaAs  |c А. В. Войцеховский, С. Н. Несмелов, С. М. Дзядух [и др.] 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 31 назв. 
520 3 |a В диапазоне температур 9–200 К экспериментально исследованы температурные зависимости дифференциального сопротивления области пространственного заряда в режиме сильной инверсии для МДП-структур на основе CdₓHg₁₋ₓTe (x = 0.22–0.40), выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изучено влияние на величину произведения дифференциального сопротивления на площадь различных параметров структур: состава рабочего слоя, типа подложки, типа диэлектрического покрытия, наличия приповерхностного варизонного слоя. Показано, что значения произведения RОПЗA для МДП-структур на основе n-CdHgTe, выращенного на подложке из Si(013), меньше, чем для структур на основе материала, выращенного на подложке из GaAs(013). Значения RОПЗA для МДП-структур на основе p-CdHgTe, выращенного на подложке из Si(013), сравнимы со значением аналогичного параметра для МДП-структур на основе p-CdHgTe, выращенного на подложке из GaAs(013). 
653 |a МДП-структуры 
653 |a молекулярно-лучевая эпитаксия 
653 |a кадмий-ртуть-теллур 
653 |a экспериментальные исследования 
655 4 |a статьи в журналах 
700 1 |a Войцеховский, Александр Васильевич 
700 1 |a Несмелов, Сергей Николаевич 
700 1 |a Дзядух, Станислав Михайлович 
700 1 |a Варавин, Василий Семенович 
700 1 |a Васильев, Владимир Васильевич  |c физик 
700 1 |a Дворецкий, Сергей Алексеевич 
700 1 |a Михайлов, Николай Николаевич  |c физик 
700 1 |a Якушев, Максим Михайлович 
700 1 |a Сидоров, Георгий Юрьевич 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2017  |g Т. 60, № 2. С. 141-150  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141917 
908 |a статья 
999 |c 1141917  |d 1141917