| Summary: | Приводятся результаты исследования экспериментально обнаруженного эффекта увеличения электрической прочности ускоряющего промежутка в плазмонаполненной оптической системе формирования широко-апертурного импульсного электронного пучка с током до 80 А и энергией до 35 кВ. Такая система представляет собой плазменно-оптическую систему диодного типа, в которой ускорение и формирование электронного пучка происходят в двойном слое между эмиссионной поверхностью плазменного катода (эмиттера электронов), закрытой мелкоструктурной сеткой, и открытой поверхностью анодной плазмы. Анодная плазма создаётся торои-дальным генератором оригинальной конструкции, разработанной на основе ионного источника с замкнутым дрейфом электронов с анодным слоем.
|
|---|
