Эффект увеличения электрической прочности в плазмонаполненной системе формирования интенсивного электронного пучка

Приводятся результаты исследования экспериментально обнаруженного эффекта увеличения электрической прочности ускоряющего промежутка в плазмонаполненной оптической системе формирования широко-апертурного импульсного электронного пучка с током до 80 А и энергией до 35 кВ. Такая система представляет со...

Полное описание

Библиографическая информация
Опубликовано в: :Известия высших учебных заведений. Физика Т. 60, № 9. С. 49-53
Главный автор: Гушенец, Василий Иванович
Другие авторы: Бугаев, Алексей Сергеевич, Окс, Ефим Михайлович
Формат: Статья в журнале
Язык:Russian
Предметы:
Online-ссылка:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001142278
Описание
Итог:Приводятся результаты исследования экспериментально обнаруженного эффекта увеличения электрической прочности ускоряющего промежутка в плазмонаполненной оптической системе формирования широко-апертурного импульсного электронного пучка с током до 80 А и энергией до 35 кВ. Такая система представляет собой плазменно-оптическую систему диодного типа, в которой ускорение и формирование электронного пучка происходят в двойном слое между эмиссионной поверхностью плазменного катода (эмиттера электронов), закрытой мелкоструктурной сеткой, и открытой поверхностью анодной плазмы. Анодная плазма создаётся торои-дальным генератором оригинальной конструкции, разработанной на основе ионного источника с замкнутым дрейфом электронов с анодным слоем.
Библиография:Библиогр.: 8 назв.
ISSN:0021-3411