Investigation of the bimodal character of RHEED intensity oscillations during homoepitaxial growth of Si/Si(100)
This paper presents a study of the bimodal character of the intensity oscillations of diffraction patterns obtained by the method of fast reflected electron diffraction during the epitaxial growth of Si on a Si(100) substrate. The dependence of the nature of oscillations of the intensity of diffract...
| Опубликовано в: : | Двадцатая Всероссийская конференция студенческих научно-исследовательских инкубаторов, г. Томск, 2–5 мая 2023 г. С. 162-163 |
|---|---|
| Главный автор: | |
| Другие авторы: | |
| Формат: | Статья в сборнике |
| Язык: | English |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001146789 |