Диоды Шоттки на гетероструктурах с двумерным электронным газом
Представлены результаты исследований характеристик контактов с барьерами Шоттки на псевдоморфной гетероструктуре AlGaAs/InGaAs. Диоды Шоттки с барьером на основе Ti создавались по стандартной pHEMT-технологии. Показано, что параметры изготовленных контактов с барьерами Шоттки близки к характеристика...
| Опубликовано в: : | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 61, № 12. С. 14-20 |
|---|---|
| Главный автор: | Ющенко, Алексей Юрьевич |
| Другие авторы: | Айзенштат, Геннадий Исаакович, Федотова, Фаина Игнатьевна |
| Формат: | Статья в журнале |
| Язык: | Russian |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001149060 |
Похожие документы
- Низкобарьерные диоды Шоттки на основе Al/n-GaAs с дельта-легированным приповерхностным слоем
-
The radiation defects introduction in InP shottky diodes
по: Peshev, V. V. - Диоды Шоттки на основе GaAs с туннельнопрозрачным слоем Ga2Se3
- Значение высоты барьера Шоттки и расчет ВАХ диодов Al/n-(SiC)1-x(AlN)x и гетеропереходов на основе 4H-SiC
- Исследование контакта Au-ZrN-n- GaAs с барьером Шоттки
