Изучение спектральных зависимостей показателя поглощения слоев GeSn и GeSiSn различного состава, полученных методом молекулярно-лучевой эпитаксии
Проводятся исследования показателя поглощения в ближнем ИК-диапазоне слоев GeSn и GeSiSn различных составов с содержанием кремния до 63% и олова до 14%, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изучены две серии образцов, полученных на наноструктурированной фасетированной поверхности и н...
| Опубликовано в: : | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 67, № 12. С. 22-30 |
|---|---|
| Другие авторы: | , , , , , , |
| Формат: | Статья в журнале |
| Язык: | Russian |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001151242 Перейти в каталог НБ ТГУ |
| Итог: | Проводятся исследования показателя поглощения в ближнем ИК-диапазоне слоев GeSn и GeSiSn различных составов с содержанием кремния до 63% и олова до 14%, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изучены две серии образцов, полученных на наноструктурированной фасетированной поверхности и на поверхности Si(100). Установлено, что на телекоммуникационной длине волны 1.55 м км величина показателя поглощения GeSiSn превышает значение для Ge более чем в 4 раза. Определены значения ширины запрещенной зоны GeSiSn исследуемых составов. Получено хорошее количественное согласие расчетных и экспериментальных значений ширины запрещенной зоны и качественное согласие спектров оптического поглощения. |
|---|---|
| Библиография: | Библиогр.: 23 назв. |
| ISSN: | 0021-3411 |
| Доступ: | Ограниченный доступ |