Определение зависимости длины диффузии атомов Si на поверхности при гомоэпитаксиальном росте на Si(100)
| Published in: | Материалы и технологии фотоники, электроники и нелинейной оптики : материалы всероссийской конференции с международным участием, 10-13 сентября 2024 г. С. 52 |
|---|---|
| Main Author: | Кукенов, Олжас Игоревич |
| Other Authors: | Дирко, Владимир Владиславович, Майер, Ксения Александровна |
| Format: | Book Chapter |
| Language: | Russian |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001151571 Перейти в каталог НБ ТГУ |
Similar Items
-
Реконструкция поверхности Ge 2хN на Si(100) в широком температурном диапазоне
by: Кукенов, Олжас Игоревич -
Анализ длины димерного ряда при гетероэпитаксиальном росте Ge/Si(100) методом дифракции быстрых отраженных электронов
by: Кукенов, Олжас Игоревич -
О роли адсорбированных димеров кремния в кинетике движения атомных ступеней на поверхности Si(100)
by: Эрвье, Юрий Юрьевич - Анализ изменения поверхности при росте Ge, GeSi на Si(100) и Si(111) методом дифракции быстрых электронов
-
Особенности осцилляций интенсивности дифракционных картин при эпитаксии Si/Si(100) и Ge/Si(100)
by: Кукенов, Олжас Игоревич
