Многоуровневая цифровая модель осадочной толщи района расположения Сибирского химического комбината

Представлена многоуровневая иерархическая цифровая модель района полигона глубинного захоронения жидких радиоактивных отходов Сибирского химического комбината, которая согласованно описывает различные участки геологической среды с разным уровнем детальности. Представленная модель состоит из простр...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Вестник Томского государственного университета № 329. С. 256-261
Main Author: Данилов, Владислав Владимирович
Other Authors: Истомин, Андрей Дмитриевич, Носков, Михаил Дмитриевич
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001152807
Перейти в каталог НБ ТГУ
Description
Summary:Представлена многоуровневая иерархическая цифровая модель района полигона глубинного захоронения жидких радиоактивных отходов Сибирского химического комбината, которая согласованно описывает различные участки геологической среды с разным уровнем детальности. Представленная модель состоит из пространственно вложенных моделей трех рангов. В работе описаны структуры, принципы построения и схемы согласования моделей различных рангов. Эта модель может использоваться для анализа литолого-стратиграфической структуры района полигона глубинного захоронения, выполнения прогнозных расчетов изменения состояния пласта-коллектора и распространения ореола загрязнения.
Bibliography:Библиогр.: 14 назв.
ISSN:1561-7793