Многоуровневая цифровая модель осадочной толщи района расположения Сибирского химического комбината

Представлена многоуровневая иерархическая цифровая модель района полигона глубинного захоронения жидких радиоактивных отходов Сибирского химического комбината, которая согласованно описывает различные участки геологической среды с разным уровнем детальности. Представленная модель состоит из простр...

Полное описание

Библиографическая информация
Опубликовано в: :Вестник Томского государственного университета № 329. С. 256-261
Главный автор: Данилов, Владислав Владимирович
Другие авторы: Истомин, Андрей Дмитриевич, Носков, Михаил Дмитриевич
Формат: Статья в журнале
Язык:Russian
Предметы:
Online-ссылка:https://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001152807
Перейти в каталог НБ ТГУ