Adhesion at TiNi interfaces with Ta, Mo and Si
Atomic and electronic structure of (001) and (110) interfaces between TiNi and Ta, Mo, Si thin films are investigated by ab-initio method within density functional theory. It is shown that high adhesion properties can be attained at the Mo/TiNi(001)Ti interface, whereas the work of separation of Ta...
Published in: | MATEC Web of conferences Vol. 33. P. 03006-1-03006-6 |
---|---|
Corporate Author: | Томский государственный университет Физический факультет Научные подразделения ФФ |
Other Authors: | Bakulin, Alexander V., Meisner, Lyudmila L., Kulkova, Svetlana E., Tarasov, Konstantin Yu |
Format: | Article |
Language: | English |
Subjects: | |
Online Access: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000537535 Перейти в каталог НБ ТГУ |
Similar Items
-
Адгезия на границах раздела TiNi с Ta, Mo, Si
by: Тарасов, Константин Юрьевич -
Влияние оксидных слоев на адгезию на границах раздела TiNi с Ta, Mo и Si
by: Тарасов, Константин Юрьевич -
Особенности наноструктуры поверхностных слоев NiTi, формирующихся после ионного легирования Ta
by: Шмидт, Екатерина Юрьевна - Mechanical properties of Ti-Ni-Ta and Ti-Ni-Ta-Si surface alloys synthesized on titanium nickelide substrates
-
Структура и свойства пористого никелида титан полученного реакционным спеканием с добавками Co и Mo
by: Артюхова, Надежда Викторовна