Влияние термического отжига и воздействия кислородной плазмы на свойства структур TiO2-Si

Bibliographic Details
Published in:Физика и техника полупроводников Т. 48, вып. 7. С. 989-994
Corporate Authors: Томский государственный университет Радиофизический факультет Кафедра полупроводниковой электроники, Томский государственный университет Научное управление Лаборатории НУ, Томский государственный университет Радиофизический факультет Научные подразделения РФФ, Томский государственный университет Сибирский физико-технический институт Научные подразделения СФТИ
Other Authors: Калыгина, Вера Михайловна, Петрова, Юлианна Сергеевна, Толбанов, Олег Петрович, Черников, Евгений Викторович, Цупий, Светлана Юрьевна, Яскевич, Тамара Михайловна, Новиков, Вадим Александрович
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000495303
Перейти в каталог НБ ТГУ