Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Главный автор: | Берлин, Евгений Владимирович |
---|---|
Другие авторы: | Сейдман, Лев Александрович |
Формат: | Книга |
Язык: | Russian |
Публикация: |
Москва
Техносфера
2010
|
Серии: | Мир материалов и технологий
|
Предметы: | |
Online-ссылка: | Перейти в каталог НБ ТГУ |
Похожие документы
-
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
по: Берлин, Евгений Владимирович
Публикация: (2014) -
Влияние неравномерности толщины поверхностной диэлектрической пленки на распыление катода в тлеющем разряде
по: Бондаренко, Геннадий Германович 1945- -
Наноструктурные нитридные покрытия, синтезированные дуговым распылением композиционных катодов системы Ti-Cu
по: Гурских, Алексей Валерьевич - Формирование волокнистых материалов методом пневматического распыления полимеров, находящихся в вязкотекучем состоянии
-
Введение в технологию материалов микроэлектроники. В 3 частях. Часть 3. Эпитаксиальный рост учебник для вузов
по: Александрова О. А.
Публикация: (2023)