Технология создания структур с квантовыми точками Ge/Si молекулярно-лучевой эпитаксией

Bibliographic Details
Published in:Нано- и микросистемная техника № 9. С. 20-31
Corporate Authors: Томский государственный университет Радиофизический факультет Кафедра квантовой электроники и фотоники, Томский государственный университет Радиофизический факультет Научные подразделения РФФ, Томский государственный университет Сибирский физико-технический институт Научные подразделения СФТИ
Other Authors: Войцеховский, Александр Васильевич, Мельников, Александр Александрович доктор физ.-мат. наук, Несмелов, Сергей Николаевич, Коханенко, Андрей Павлович, Лозовой, Кирилл Александрович, Кульчицкий, Николай Александрович
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000493229