Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
Other Authors: | , , , |
---|---|
Format: | Book |
Language: | Russian |
Published: |
Новосибирск
Издательство СО РАН
2013
|
Series: | Интеграционные проекты СО РАН
|
Subjects: | |
Online Access: | Перейти в каталог НБ ТГУ |
Internet
Перейти в каталог НБ ТГУНаучная библиотека ТГУ: Книгохранилище
Call Number: |
2-060215 |
---|---|
Available Place a Hold |